Вакуумна система для нанесення металічних плівок магнетронним розпиленням

Призначення:

Отримання плівок практично будь-яких металів без порушення стехіометричного складу.

Технічні характеристики:

  • Можливості для нанесення багатошарових покриттів – 3 джерела напилення різних металів.
  • Високі швидкості напилення:  v = 1-30 нм/с.
  • Можливість підігріву підкладинок – температура столика для нагріву об’єктів: T = 25-1100 0С.
  • Мішень кругла, діаметром (40-1) мм, товщина матеріалу, що розпилюється: d = 1-3 мм.
  • Максимальна площа напилення діаметром: <= 70 мм.
  • Максимальна товщина плівки: d ≤1 мкм.
Contacts: 
Україна, Інститут фізики напівпровідників НАНУ, [email protected]